[article]
| Titre : |
La lumière stratégique : tout tient en 13,5 nanomètres |
| Type de document : |
texte imprimé |
| Auteurs : |
Xavier Boivinet |
| Editeur : |
Unique Heritage Media, 2026 |
| Article : |
p.68-74 |
| Langues : |
Français (fre) |
in Epsiloon. Hors-série > 017 (01/2026)
| Descripteurs : |
industrie de pointe / onde électromagnétique
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| Résumé : |
Présentation de la lumière extrême ultra-violet (EUV) ou lithographie ultraviolette extrême : historique de l'utilisation et de l'évolution de la lithographie dans l'industrie des circuits imprimés depuis les années 1980, caractéristiques de la technologie, monopole du process de fabrication des machines par la société ASML, enjeux pour l'économie industrielle mondiale (recherche, production des wafers). |
| Nature du document : |
documentaire |
| Genre : |
Article de périodique |
[article] La lumière stratégique : tout tient en 13,5 nanomètres [texte imprimé] / Xavier Boivinet . - Unique Heritage Media, 2026 . - p.68-74. Langues : Français ( fre) in Epsiloon. Hors-série > 017 (01/2026)
| Descripteurs : |
industrie de pointe / onde électromagnétique
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| Résumé : |
Présentation de la lumière extrême ultra-violet (EUV) ou lithographie ultraviolette extrême : historique de l'utilisation et de l'évolution de la lithographie dans l'industrie des circuits imprimés depuis les années 1980, caractéristiques de la technologie, monopole du process de fabrication des machines par la société ASML, enjeux pour l'économie industrielle mondiale (recherche, production des wafers). |
| Nature du document : |
documentaire |
| Genre : |
Article de périodique |
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La lumière stratégique : tout tient en 13,5 nanomètres
de Xavier Boivinet
In Epsiloon. Hors-série, 017 (01/2026), p.68-74
Présentation de la lumière extrême ultra-violet (EUV) ou lithographie ultraviolette extrême : historique de l'utilisation et de l'évolution de la lithographie dans l'industrie des circuits imprimés depuis les années 1980, caractéristiques de la technologie, monopole du process de fabrication des machines par la société ASML, enjeux pour l'économie industrielle mondiale (recherche, production des wafers).
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Boivinet Xavier.
« La lumière stratégique : tout tient en 13,5 nanomètres »
in Epsiloon. Hors-série, 017 (01/2026), p.68-74.
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La lumière stratégique : tout tient en 13,5 nanomètres / Unique Heritage Media (2026) in Epsiloon. Hors-série, 017 (01/2026)
